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池添 康正; 佐藤 章一; 団野 晧文
Bulletin of the Chemical Society of Japan, 46(4), p.1154 - 1158, 1973/04
窒素-エチレン系からの放射線によるシアン化水素生成が、吸収線量、照射温度、ガス密度、ガス組成、反応容器の壁面等に依存することを見出した。高温においては、G(HCN)値は全ガス密度が小さいと大きくなる。室温においては、エチレン分圧が高いとG(HCN)値は大きくなる。反応容器の壁面はG(HCN)に大きな影響を及ぼす。最も大きいG(HCN)として4.2という値が得られた。シアン化水素生成のメカニズムとして次の2つの反応が提供された。N(or N)+chHCN+CH(or CH(2)N(orN)+CHHCN+oHlersz(3)反応(3)は高温および高エチレン分圧下において加速される反応である。室温においてもエチレン分圧の高いところでは反応(3)は反応(2)に優越している。
渡辺 光崇; 和田 武*; 町 末男; 武久 正昭
J.Polym.Sci.,Part B, 10(9), p.741 - 745, 1972/09
エチレンの放射線溶液重合において、用いる重合溶媒や反応条件の分子量分布に与える影響は大きいことが明らかになった。生成ポリエチレンの良溶媒であるシクロヘキサン中での生成ポリマーは反応条件によらずunimodalな分子量分布をもつ。これに反し、2,2,4-トリメチルペンタンやt-ブタノール中での生成ポリマーの分子量分布は反応条件によって大きく影響される。これらの系は反応中、ポリマーや生長鎖ラジカルが析出してくることが知られており、反応系内でのラジカルのmobilityが重要な問題となる。本報はunimodal,bimodalな分子量分布を生長鎖ラジカルのmobilityと関連づけて考察したものである。
町 末男; 川上 和市郎; 山口 康市; 保崎 吉彦*; 萩原 幸; Sugo, Takanobu*
J.Appl.Polym.Sci., 12, p.2639 - 2647, 1968/00
被引用回数:7抄録なし